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发布日期:2024-01-06 13:11  点击次数:85

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据日本媒体报导,光刻机巨头艾司摩尔 (ASML) 施行副总裁 Christophe Fouquet近日示意,半导体产业需要 2030 年代开拓数值孔径 0.75 的超高 NA EUV 光刻本事,餍足半导体发展。

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Christophe Fouquet 指出,自 2010 年代以来 EUV 本事越来越熟习,半导体制程微缩至 2020 年前后三年,以跳跃 50% 幅度前进,但这一速率可能会在 2030 年代放缓不敷使用。

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故而,ASML野心年底前发表首台商用 High-NA (NA=0.55) EUV 微影光刻开拓 (原型制作),2025 年量产出货。2025 年运转,客户就能从数值孔径为 0.33 传统 EUV 多重图案化,切换到数值孔径为 0.55 High-NA EUV 单一图案化,皇冠信用盘要押金吗镌汰制程资本,提升产量。

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High-NA EUV开拓预估会有五大客户:英特尔、台积电、三星、SK海力士、好意思光,可最早使用开拓。

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据先容,柯林研发、科磊、HMI 和 JSR 及东京电子等正与 ASML 合营,开拓 High-NA EUV 材料与特用化学品。

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据了解,面前EUV光刻机价钱为每套3亿好意思元,因此可预测,改日High-NA EUV 价钱也将异常辛勤。



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